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参考设(she)想流程

参考设(she)想流程

中芯国际供给基于差别前(qian)沿EDA处理计(ji)划的多(duo)个综(zong)合参考流(liu)程(cheng)(cheng)。这(zhei)些(xie)参考流(liu)程(cheng)(cheng)使客户成(cheng)立起本身的设想(xiang)情况,经由(you)过程(cheng)(cheng)从RTL到GDSII的简略步骤,大大削减了出产时候。

这(zhei)些参考流(liu)程是由中芯(xin)国际的(de)参考流(liu)程团队及(ji)Cadence,Synopsys等抢先(xian)的(de)EDA公司(si)配合开辟的(de)。

今朝,中芯(xin)(xin)国际供给基(ji)于差别的(de)(de)EDA设想(xiang)情况的(de)(de)逻辑(ji)设想(xiang)和庞杂的(de)(de)体系芯(xin)(xin)片参考设想(xiang)流(liu)程,办事于0.13μm,90nm,65nm,40nm及28nm的(de)(de)设想(xiang)。也包罗针对0.11μM和55nm的(de)(de)参考设想(xiang)指南(nan)。

有关(guan)参考设想流程的具(ju)体信息(xi),请从上(shang)面菜单(dan)中有关(guan)参考设想流程的具(ju)体信息(xi)。

文件(jian)

版本

 

28um

SMIC- Cadence Reference Flow 6.0

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SMIC- Synopsys Reference Flow 6.0

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40um

SMIC- Cadence Reference Flow 5.1

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SMIC- Synopsys Reference Flow 5.1

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65um

SMIC- Cadence Reference Flow 4.0

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SMIC- Synopsys Reference Flow 4.0

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90um

SMIC- Cadence Reference Flow 3.2

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SMIC- Synopsys Reference Flow 3.2

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0.13um

SMIC- Cadence Reference Flow 2.1

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SMIC- Synopsys Reference Flow 2.1

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